• 射和干扰是一个有用的、应用程序设计，以显示单个和双缝隙，显示射和干扰的模式，从一个单一的狭缝中，双来源和双缝隙。 用户可以改变源波长、缝宽，分离的距离之间的缝隙和屏幕上。

  • विवर्तन और हस्तक्षेप है एक उपयोगी, आवेदन प्रदर्शित करने के लिए डिज़ाइन सिंगल और डबल Slits है कि दिखाने के विवर्तन और हस्तक्षेप पैटर्न से एक एकल भट्ठा, दोहरी स्रोतों और डबल slits है । उपयोगकर्ता को बदल सकते हैं स्रोत तरंगदैर्ध्य, भट्ठा चौड़ाई, जुदाई और दूरी के बीच भट्ठा और स्क्रीन.

  • Diffraction and Interference is a useful, application designed to display Single and Double Slits that show diffraction and interference patterns from a single slit, double sources and double slits. The user can change the source wavelength, slit width, separation and distance between slit and screen.